[26a-P05-1~5] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

[26a-P05-2] SiO₂上へのニッケルシリサイド超薄膜の形成と化学結合状態分析

〇(B)木村 圭佑¹、西村 駿介²、田岡 紀之²、大田 晃生²、牧原 克典²、宮﨑 誠一² (1.名大工、2.名大院工)

キーワード：超薄膜、XPS、NiSi