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△ [26p-E206-10] 超高真空スパッタ法で作製した Zr および Ti 非蒸発型ゲッタ薄膜の評価
キーワード:薄膜、真空、非蒸発型ゲッタ
Zr, Tiなどの非蒸発型ゲッタ (NEG) は超高真空中での加熱により活性化し、残留ガスを吸着・排気する材料である。Zr, Tiをスパッタ法で製膜した大きさや形状が異なる基板を用意し、150~200℃で12~24時間加熱してH2, COに対する排気速度を測定した。ベーキング後に10-8 Paへ到達した基板はH2に対する排気性能を示さなかったが、H2O, COは排気していると思われる。講演ではTiをスパッタ製膜したブランクフランジのCOに対する排気性能についても報告する。