[26p-F308-1~4] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[26p-F308-2] ピッチ可変格子パターン付き自立PDMS膜の作製

長濱 瑠星¹、〇川田 博昭¹、水谷 彰夫¹、菊田 久雄¹、平井 義彦¹ (1.大府大工)

キーワード：ナノインプリント、ピッチ可変格子、ポリジメチルシロキサン膜

ポリスチレン（PS）の格子が埋め込まれた自立ポリジメチルシロキサン（PDMS）膜を作製するプロセスを開発した。PDMSは容易に伸縮できるので作製されたPDMS自立膜を伸延すことでPSの格子周期を変化させることができ波長可変フィルタとして利用できることが期待される。作製された自立PDMS膜には一部PS格子に欠損があるが良好な4umピッチのPS格子が埋め込まれたPDMS自立膜が作製できた．今後はサブミクロンサイズのPS格子を作製する予定である．