13:45 〜 14:00 △ [17p-B309-4] 折り畳みグラフェン/h-BN素子の作製と磁場反転接合の実現 〇若藤 祐斉1、守谷 頼1、増渕 覚1、張 奕勁1、渡邊 賢司2、谷口 尚2、町田 友樹1,3 (1.東大生研、2.物材機構、3.CREST -JST)