09:15 〜 09:30
[15a-B410-2] ミニマル液体ドーパント・プロセスを用いたMOSFETのシート抵抗のばらつき評価
キーワード:ミニマルファブ、SODコート、スピンコーター
ミニマルファブではMOSFETデバイスの不純物拡散にSOD材料によるスピンコートを実施している。
前回発表では、改善したnMOSFETプロセスでドーピングの面内均一性が悪化した結果になった。
前回の結果を検証し、ウェハの径方向の面内均一性にばらつきは無く均一であった。
今回は同様にpMOSFETのドーピングの面相均一性を評価し、その結果を報告する。
前回発表では、改善したnMOSFETプロセスでドーピングの面内均一性が悪化した結果になった。
前回の結果を検証し、ウェハの径方向の面内均一性にばらつきは無く均一であった。
今回は同様にpMOSFETのドーピングの面相均一性を評価し、その結果を報告する。