[15a-D209-1~5] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15a-D209-1] UVナノインプリントリソグラフィによるシリコンナノディスク配列体の作製

〇高野 修綺¹、新家 寛正¹、森田 伊織²、後藤 和泰³、押切 友也¹、中川 勝¹ (1.東北大多元研、2.東北大通研、3.名大院工)

キーワード：UVナノインプリントリソグラフィ、ナノ構造配列体、反応性イオンエッチング

素子サイズのシリコンナノディスク配列体を複製する方法にUVナノインプリントリソグラフィの応用が検討されている。光硬化性液体の成形にはポリジメチルシロキサン(PDMS)製のモールドが多用される。PDMSモールドは塵埃耐性が高い一方で、成形時の押圧によるパターン形状の寸法精度の問題が指摘されている。本研究では寸法精度の高い合成石英モールドを用いたシリコンナノディスク配列体の作製方法を検討した。