2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[15a-D511-1~11] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2023年3月15日(水) 09:00 〜 12:00 D511 (11号館)

福山 敦彦(宮崎大)、須藤 治生(GWJ)

10:45 〜 11:00

[15a-D511-7] Si結晶と各種SiO2との結晶構造整合性

神山 栄治1,2、末岡 浩治2 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン㈱、2.岡山県立大情報工)

キーワード:シリコン、SiO2、結晶構造

SiO2は,Si結晶と親和性の高い材料で, Si系MOSデバイスのゲート絶縁膜として,また,デバイスで使用される多様な金属に対する有効なゲッタリング源となるSiウェーハ中の微小酸素析出物として,広く用いられている.これらのSiO2は,アモルファス構造とされ,結晶周期性を有さないものとみなされているが,いずれもSi結晶を酸化することで得られるものであることから,かつてSi結晶であったことの何等かの履歴を有するという推測も成り立つ.そこで,本講演では,Si結晶と既知のSiO2結晶の整合性について論ずる.