[15a-E102-1~10] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15a-E102-4] 大気圧低温プラズマで製膜する透明導電性薄膜ZnOの低抵抗化における水蒸気添加の影響

〇細谷 宣佳¹、山本 雅史¹、須崎 嘉文²、鹿間 共一¹ (1.香川高専、2.香川大学)

キーワード：透明導電性薄膜、大気圧低温プラズマ

大気圧低温プラズマによりZnO薄膜を作製した。薄膜に水蒸気添加を行い、その効果について電気抵抗率測定、X線回折測定、透過率測定等を行い検討した。水蒸気添加を行うことによりアモルファス化していき、電気抵抗が大幅に下がった。