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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[15p-A403-1~16] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2023年3月15日(水) 13:00 〜 17:15 A403 (6号館)

鵜殿治彦(茨城大)、末益崇(筑波大)、山口憲司(量研機構)

14:00 〜 14:15

[15p-A403-5] B-doped a-Siを用いたB-doped BaSi₂膜の熱反応堆積成長と評価

〇中村新¹、青貫翔¹、成田隼翼¹、高柳香織¹、岩井藍¹、都甲薫¹、末益崇¹ (1.筑波大学)

キーワード：半導体