[16a-D519-1~14] CS.1 2.3 加速器質量分析・加速器ビーム分析、7.4 量子ビーム界面構造計測、7.5 イオンビーム一般のコードシェアセッション

[16a-D519-10] Ar-GCIBスパッタリングによる有機高分子損傷の分子量依存性

〇(B)杉本 萌紀¹、瀬木 利夫²、松尾 二郎² (1.京大工、2.京大院工)

キーワード：二次イオン質量分析法、クラスターイオンビーム

Arガスクラスターイオンビーム（Ar-GCIB）スパッタリングによって有機高分子が受ける損傷の程度が、分子量に応じてどのように変化するのかを調べた。その結果、分子量1500 Da以上のポリエチレングリコール（PEG）ではスパッタリングによる損傷が起こっていることがわかった。