[16a-E102-1~6] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[16a-E102-3] ミストCVD反応炉内におけるミスト液滴の状態

〇草下 圭太¹、梶 亮介¹、川原村 敏幸^1,2 (1.高知工大 シス工、2.総研)

キーワード：ミストCVD、ライデンフロスト、微小液滴