2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.4 有機EL・トランジスタ

[16p-E502-1~9] 12.4 有機EL・トランジスタ

2023年3月16日(木) 13:45 〜 16:00 E502 (12号館)

李 成薫(東大)

14:00 〜 14:15

[16p-E502-2] 高急峻スイッチング有機単結晶TFTにおけるゲート絶縁膜材料に依存したキャリア注入

〇(M2)村田 啓人1、井上 悟1、東野 寿樹2、長谷川 達生1 (1.東大院工、2.産総研)

キーワード:有機半導体、トランジスタ、キャリア注入

実用上重要なボトムゲート・ボトムコンタクト型TFTは、その構造上絶縁膜がキャリア注入に大きな影響を及ぼしうると考えられる。そこで本研究では塗布型単結晶TFTを作製し、接触抵抗に対する絶縁膜材料の効果を調べた。結果、高撥液性のCytop絶縁膜を用いた素子はパリレン絶縁膜を用いた素子と比べてデバイス移動度が2〜3倍ほど高い値を示し、接触抵抗が1桁以上低いことが明らかになった。