[17a-A405-1~9] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

[17a-A405-9] フェムト秒レーザーを用いたZnO基板への単一ナノ溝構造の形成

〇(B)森本 純至^1,2、Shi Bai¹、小幡 孝太郎¹、宮地 悟代²、杉岡 幸次¹ (1.理研　光量子、2.東京農工大)

キーワード：単一ナノ溝構造、ZnO基板、フェムト秒レーザー

アブレーション閾値近傍のフルエンスをもつ超短パルスレーザーを集光照射することで、偏光方向に依存したナノ周期構造（laser-induced periodic surface structures, LIPSS）が形成される。これまでに我々は、直線偏光のフェムト秒レーザーの照射強度をLIPSS形成条件から高精度に減少させることによって、LIPSS中の溝の数を減少でき、最終的に１本の溝のみ（単一ナノ溝構造）が形成できることを報告した。本研究では、単一ナノ溝構造を制御性良く作製することを目的とし、形成される構造のレーザー照射条件依存性を検討した