2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術

[17a-D704-1~9] 10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術

2023年3月17日(金) 09:00 〜 12:00 D704 (11号館)

増田 啓介(物材機構)、坂本 祥哉(東大)

11:15 〜 11:30

[17a-D704-7] 面内スピンバルブ型CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合における高効率データ取得と多層構造最適化

介川 裕章1、Scheike Thomas1、Wen Zhenchao1、葛西 伸哉1、三谷 誠司1 (1.物材機構)

キーワード:強磁性トンネル接合、トンネル磁気抵抗効果、MgO

最近我々は単結晶強磁性トンネル接合(MTJ)を用いてバリア界面の最適化により大幅なTMR比向上を報告した。本研究では、この単結晶MTJ技術を応用素子で主流のCoFeB/MgO/CoFeB型多結晶MTJへの展開を検討した。複雑な多層膜構造の高速プロセス最適化のため高スループット成膜装置を活用し、ピン層を持つスピンバルブCoFeB/MgO/CoFeB型MTJのトンネル磁気抵抗(TMR)最適化を行った結果を報告する。