2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[17p-B409-1~17] 12.1 作製・構造制御

2023年3月17日(金) 13:00 〜 18:00 B409 (2号館)

小柴 康子(神戸大)、野田 啓(慶大)、山本 俊介(東北大)、横倉 聖也(北大)

15:45 〜 16:00

[17p-B409-10] ミストデポジション法による質量イオン化支援剤の形成と質量分析イメージングへの応用

仲林 裕司1、山田 悟2、酒井 平祐3、鈴木 亮一4 (1.北陸先端大、2.石川高専、3.国士舘大、4.金沢工大)

キーワード:ミストデポジション法、イオン化支援剤、マトリックス支援レーザー脱離イオン化法

マトリックス支援レーザー脱離イオン化法による質量分析イメージングでは,高精細な質量像を得るために広範囲に渡る均一性の高いイオン化支援剤の形成が望まれる.
本研究では,ミストデポジション法をベースとした形成装置を開発し,形成したイオン化支援剤の物性を評価し,生物及び植物試料を用いた質量分析イメージングにより質量像を解析した.講演では,イオン化支援剤の形態と質量像を比較した結果と開発した装置の優位性について詳細に議論する.