[17p-B409-1~17] 12.1 作製・構造制御

[17p-B409-6] PVD法で成長するCo(Ⅱ)フタロシアニン螺旋超分子の磁性基板を用いたキラル分割

〇(D)相澤 洋紀^1,2、佐藤 拓郎^1,2、米倉 功治³、眞木-米倉 沙織³、濱口 祐³、高場 圭章³、湊 丈俊²、山本 浩史^1,2 (1.総研大、2.分子研、3.理研)

キーワード：キラル誘起スピン選択則、物理的気相成長、螺旋超分子

キラル誘起スピン選択性と呼ぶキラル物質によるスピン偏極現象が様々な研究で報告されており、面垂直磁化したNi基板をアミノ酸のラセミ混合溶液中に置くと、磁気の向きによってキラル分割する現象が報告されている。今回、物理的気相成長法でキラリティ―の無いCo(Ⅱ) フタロシアニンから螺旋超分子へ成長する研究に着目した。Ni基板上に同様に成長させ、磁気の向きによって螺旋の左右配向を11:9から9:11に偏ることに成功した。