[17p-D419-1~15] 6.4 薄膜新材料

[17p-D419-13] Ni(OH)₂薄膜の光学特性に対する熱処理温度の影響

〇阿部 良夫¹、川村 みどり¹、金 敬鎬¹、木場 隆之¹ (1.北見工大)

キーワード：水酸化ニッケル薄膜、スパッタリング、バンドギャップエネルギー

電気化学的に活性な材料である水酸化ニッケル[Ni(OH)₂]薄膜を反応性スパッタ法を用いて作製した。これまで、報告例が少ないNi(OH)₂薄膜のバンドギャップエネルギーを調べ、約4.2 eVであることがわかった。また、150 ℃以上の熱処理によりNiOに熱分解し、バンドギャップエネルギーが低下することがわかった。