[17p-PA04-1~10] 3.13 光制御デバイス・光ファイバー（旧3.14）

[17p-PA04-9] Al₂O₃マスクを用いたプロセスによるSi₃N₄光導波路の作製

〇(M2)齋藤 直輝¹、柴崎 純一²、難波 正和²、宮本 祐司²、三浦 雅人²、船橋 信彦²、秋山 泰伸¹、青島 賢一²、平野 芳邦² (1.東海大院工、2.NHK技研)

キーワード：光フェーズドアレイ、微細加工、プロセス