[18a-A202-1~8] 3.13 光制御デバイス・光ファイバー（旧3.14）

[18a-A202-4] 厚膜シリコンフォトニクス偏波回転分離器の作製

〇鈴木 優斗¹、小松 憲人¹、宮野 広基¹、田之村 亮汰¹、加藤 豪作¹、エルフィキ アブドラジズ¹、種村 拓夫¹、中野 義昭¹ (1.東大院・工)

キーワード：厚膜シリコンフォトニクス、偏波回転分離器

厚膜シリコンフォトニクスはシリコンコア層が1 µm以上のSOI基板を用いた光集積回路プラットフォームであり，コア面積の大きさによる低損失性などに優れている一方で偏波制御素子が実用化されていないことが応用を制限していた．そこで著者らはこれまでにV溝導波路という新規構造を用いた偏波回転分離器を提案した．今回，V溝導波路の作製を実際に行い，作製誤差を許容範囲に収めた作製プロセスの確立に成功した．