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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

[18a-A405-1~9] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

2023年3月18日(土) 09:00 〜 11:30 A405 (6号館)

中嶋隆(京大)、小幡孝太郎(理研)

11:00 〜 11:15

[18a-A405-8] レーザーで作成した電極表面マイクロ構造における水素気泡の生成挙動

〇安東航太¹、Xiaofeng Wang¹、内本喜晴¹、中嶋隆¹ (1.京都大学)

キーワード：レーザー加工、水電解、気泡