[18a-B401-1~9] 15.4 III-V族窒化物結晶

[18a-B401-3] 偏光制御されたピコ秒レーザを用いた窒化ガリウムのパルスレーザ成膜

〇児玉 和樹¹、宮地 光彦²、小田 修¹、堀 勝¹、上田 大助¹ (1.名古屋大、2.アルファシステム)

キーワード：パルスレーザ堆積法、レーザ偏光、窒化ガリウム

我々はこれまでにピコ秒レーザを用いたパルスレーザ堆積法によって高濃度n-GaN膜を再成長し、ノンアロイ処理で低抵抗なオーミック電極の形成を実現した。今回、レーザ偏光面を1/2波長板を用いて変化させながら液体Ga源に照射することによって、プルーム光およびGaN成膜速度の顕著な変化を確認したので報告する。