The 70th JSAP Spring Meeting 2023

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Oral presentation

2 Ionizing Radiation » 2.2 Radiation physics fundamentals & applications, radiation generators, new technology

[18a-D411-1~11] 2.2 Radiation physics fundamentals & applications, radiation generators, new technology

Sat. Mar 18, 2023 9:00 AM - 12:00 PM D411 (Building No. 11)

Hideki Tomita(Nagoya Univ.), Kenichi Watanabe(Kyushu Univ.)

9:00 AM - 9:15 AM

[18a-D411-1] Design of a Two-stage Acceleration lens for a Single-Ion Implanter
-Design of a Second Acceleration Lens-

Yasuyuki Ishii1, Nobumasa Miyawaki1, Yosuke Yuri1, Shinobu Onoda1, Kazumasa Narumi1, Yuichi Saito1 (1.QST-Takasaki)

Keywords:Single-Ion Implanter, Linear Paul Trap Laser Cooling Device, Acceleration Lens

量研では、単一の窒素イオンを数10keVまで加速し、ナノメートルの精度で、1個ずつ試料に注入する技術として、数10keV単一イオン注入(Single Ion Implantation: SII)装置を開発している。この装置では、単一イオンを既に研究成果が報告されている線形ポールトラップ型レーザー冷却(LPTC)装置[1]により発生する。本研究では、その単一イオンを数10keVまで加速し、数nm径に集束できるレンズを開発し、ナノメートル精度での照射を目指している。これまでサブミクロンビーム形成装置用に開発した100keV用二段加速レンズを基に、上記の条件に適した二段加速レンズの内の二段目のレンズを設計したので、その結果を報告する。