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[18p-A205-3] 間欠型深振動マグネトロンスパッタリングの放電パルス設計とプラズマ分光計測
キーワード:パルススパッタリング、発光分光分析、深振動マグネトロンスパッタリング
櫛型のマイクロパルス放電波形からなる深振動マグネトロンスパッタリング(DOMS)は、成膜速度を補償し優れたアークフリー特性を備えた成膜法として期待される。典型的なDOMSでは2本目以降のマイクロパルス放電においてスパッタ金属粒子イオンの生成量が極端に低下する問題点がある。本研究では、DOMSによるイオン化率の向上を目的としてマイクロパルス列を間欠させた間欠型DOMS法を考案し、イオン生成量の増加に対する効果を検討した。