粉体粉末冶金協会 平成30年度秋季大会(第122回講演大会)

講演情報

一般研究発表講演

一般研究発表:電気・電子特性

2018年10月31日(水) 09:00 〜 10:25 第 II 会場 (3F, 中会議室 302)

座長:東 正樹(東京工業大学)

09:40 〜 09:55

[2-17A] スパッタ法によるSiC基板上へのエピタキシャルYbFe2O4薄膜の作製

河井 一成1、糸島 遼1、狩野 旬1、池田 直1、藤井 達生1 (1. 岡山大学)

キーワード:エピタキシャル薄膜、マルチフェロイック、希土類鉄酸化物

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