2020年日本表面真空学会学術講演会

講演情報

半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス(EMP・MI・MS)

[3Cp] 半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス(EMP・MI・MS)

2020年11月21日(土) 13:00 〜 15:00 C会場

座長:服部 梓

13:15 〜 13:30

[3Cp02S] Infrared plasmonic epitaxial LaB6 films for high-temperature thermal emitters

○ハンデガードオルヤン1,2),Anh Doan1,2),NgoHai Dang1,2),Sugavaneshwar Ramu2),Ngo Thien2,1),Dao Thang2),Ishii Satoshi2),Otani Shigeki2),Nagao Tadaaki1,2) (1)Graduate School of Science, Hokkaido University,2)National Institute for Materials Science)