[2Ca07-13] 薄膜・表面工学・半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス

[2Ca08] 金ナノ粒子プラズモンによるシリコンの低ダメージラジカル酸化

*渡邉 一叶¹、北嶋 武¹、中野 俊樹¹ (1. 防衛大学校)

金ナノ粒子のプラズモンが近年注目されている。我々は金ナノ粒子のプラズモンを応用し、イオン衝撃によるプラズマ照射表面へのダメージの低減と良質な極薄膜形成への活用を図ってきた。今回は、シリコンの室温でのラジカル酸化に対する効果を調べた。