ガス中パルスレーザーアブレーション過程で放出されたサブミクロン球状粒子の単分散化

講演情報

口頭講演

D: レーザープロセシング

[D11-20a-VII] 表面改質

2023年1月20日(金) 10:45 〜 12:30 第VII会場 (12階 1202)

座長：屋代英彦（国立研究開発法人産業技術総合研究所電子光基礎技術研究部門　先進レーザープロセスグループ）

11:45 〜 12:00

*伊東佑真¹、吉田岳人²、青木珠緒³、梅津郁朗³ (1. 甲南大自然、2. 阿南高専、3. 甲南大理工)

予稿パスワード認証
予稿の閲覧には専用のアカウントが必要です。

閲覧用のパスワードは受付の際にお渡しする参加票に記載してあります。