湿式素材プロセッシング

[P-07] Oxygen evolution overpotential of ruthenium oxide thin films prepared by reactive sputtering

^○高橋知也¹, 高橋弘樹¹, 田口正美¹, 鈴木一成² (1.秋田大学大学院工学資源学研究科, 2.DOWAメタルマイン株式会社 製錬技術研究所)

Keywords:Ru酸化物, 酸素過電圧, 反応性スパッタ, 不溶性アノード, Zn電解採取

Zn電解採取における省電力の新規不溶性アノードとして，粉末圧延法により各種酸化物触媒を分散させたPb基アノードが製造された．その中で，RuO₂を電極触媒として分散させたPb基アノードにおいて，著しいアノード電位の低下を確認できた．そこで，本研究では，反応性スッパタを用いてO/Ru比の異なる各種組成Ru酸化物薄膜を作製し，H₂SO₄水溶液中におけるアノード分極測定によって酸素過電圧を調査することにした．その結果，反応プラズマ中の酸素濃度25～100 vol.%において正方晶系RuO₂薄膜が生成し，その酸素過電圧は同様の手法で作製したPbO₂薄膜に比較して560 mV程度低いことが判明した．そのため，RuO₂を電極触媒として分散させたPb基アノードの著しい電位低下は，Ru酸化物の低い酸素過電圧に起因すると結論できた．