資源・素材2018(福岡)

講演情報(2018年7月31日付 確定版)

若手ポスター発表

環境(2)

2018年9月11日(火) 14:15 〜 15:15 ポスター会場 (A棟 1階 A14・A15講義室)

14:15 〜 15:15

[PY-28] 活性炭を利用したAs(III)不動化処理に関する研究

○堀田 悠介1、沖部 奈緒子1 (1. 九州大学)

キーワード:亜ヒ酸、酸化、不動化、活性炭

近年、ヒ素(As)含有銅鉱石の利用に伴うAs(III)含有製錬廃液の発生が問題となっている。本研究では、活性炭がもつ電子仲介媒体としての特性及び金属イオン酸化促進効果に着目し、活性炭のAs(III)酸化・不動化処理に対する有効性を評価した。30-70°Cの各温度条件において、活性炭20% (w/v)添加によりAs(III)及びFe(II)をそれぞれ1000 ppm含むpH 1.5の模擬製錬廃液から2日以内に90%以上のAsが不動化することが分かった(70°Cで5.0 mg, 30°Cで4.7 mg; 1 g 活性炭当たり)。続いて、活性炭の再利用可能性を評価するために、上記実験条件(約1日)を1サイクルとする繰り返し試験を行い、As(III)酸化・不動化挙動を追った。サイクルを重ねる毎にAs不動化率は徐々に減少していき、5サイクル後の1 g 活性炭当たりのAsの不動化量は70°Cで17.9 mg、30°Cで13.8 mgであった。これらの活性炭上に生成した鉄ヒ素沈殿物について、最終的には埋立時のAs溶出基準を満たすことを目標とし、沈殿物の安定性向上のための追加処理条件について検討していく。

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