High-rate Reactive and Stable Sputter Coatings for Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>

講演情報

Oral Session

F. Functional & Structural » [F-3] Reliable Ceramics and Composites

[F3-O301] Oral 301

2023年12月13日(水) 10:00 〜 12:00 Session 16 (Room 501)

Chair: Katsumi Yoshida (Tokyo Institute of Technology)

10:55 〜 11:15

*GunHwan Lee¹, WookHee Nam¹ (1. Korea Inst. of Materials Sci. (Korea))

キーワード：Plasma Resistant Coating, Reactive Sputtering, Plasma Control, High Rate Coating

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