日本薬学会第141年会(広島)

講演情報

一般口頭発表

(A) 化学系薬学

[29V01-pm] その他の合成③

2021年3月29日(月) 15:03 〜 16:39 [V01会場] 口頭発表会場1 (オンライン)

座長:森本 浩之(九大院薬)、葛西 祐介(徳島文理大薬)

15:03 〜 15:15

[29V01-pm09S] より穏和な条件での脱保護が可能なカチオン-π相互作用を利用したPMB型保護基の設計と合成

○小寺 優吾1、松村 美沙1、中村 光1、中村 真也1、仲西 功1、前川 智弘1 (1. 近畿大薬)

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