Spherical Shallow Trench Isolation with silicon nitride layer in Buried Gate DRAM for reducing pass gate disturbance

講演情報

Poster session

2023年6月11日(日) 17:00 〜 18:30 Room P (Shunjyu II)

*YeonSeok Kim^1,2, ChangYoung Lim^1,2, MinWoo Kwon^1,2 (1. National Univ. of Gangneung-Wonju (Korea), 2. Lab. of ISDL (Korea))

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