Low-Frequency Noise Behavior of La-Doped Hf-Based Dielectric nMOSFETs

2010 International Conference on Solid State Devices and Materials

2010年9月21日〜 2010年9月24日
The University of Tokyo, Tokyo, Japan

D. Y. Choi¹、C. W. Sohn¹、H. C. Sagong¹、M. S. Park¹、K. T. Lee¹、R. H. Baek¹、C. Y. Kang²、Y. H. Jeong¹ (1.POSTECH , Korea、2.SEMATECH , USA)