[19p-A19-1~15] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-A19-8] 臭素ドープ多層グラフェン配線のためのパッシベーション膜の検討

^○松本勇士¹，青笹明彦¹，小杉諒佑¹，宮崎久生²，和田真²，佐久間尚志²，梶田明広²，酒井忠司²，上野和良¹ (芝浦工大¹，超低電圧デバイス技術研究組合²)

キーワード：グラフェン