2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[20a-PA3-1~7] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月20日(土) 09:30 〜 11:30 PA3 (第1体育館)

ポスター掲示時間9:30~11:30(PA3会場)

09:30 〜 11:30

[20a-PA3-3] シリコン窒化膜の常磁性欠陥に対する熱処理の効果(Ⅲ)

○(M2)鈴木亜嵐1,永島大樹2,林宏紀2,小林清輝1,2 (東海大院工1,東海大工2)

キーワード:シリコン窒化膜,常磁性欠陥,ESR