2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[11p-D10-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年3月11日(水) 13:15 〜 17:45 D10 (16-305)

16:00 〜 16:15

[11p-D10-11] P型透明酸化物半導体Si:FeOのエピタキシャル薄膜の形成

〇関 宗俊1、シャモハディ アミン1、高橋 雅尚1、足立 真輝1、那須 英和1、山原 弘靖1、田畑 仁1 (1.東大工)

キーワード：酸化鉄、パルスレーザー堆積法