11:00 〜 11:15 [19a-S423-8] 集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(6) 〇李 寧1、羽深 等1、三ケ原 孝則2、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ技術研究組合、3.産総研)