15:45 〜 16:00 △ [5p-C13-7] 加湿アニール法を用いた非晶性高分子ブロックからなる両親媒性高分子によるナノ相分離構造薄膜の作製 〇松永 康平1、松井 淳2、山本 俊介3、三ツ石 方也3、永野 修作4 (1.山形大院理工、2.山大理、3.東北大多元研、4.名大VBL)