2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[14a-F202-1~12] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

3.11と3.12のコードシェアセッションあり

2017年3月14日(火) 09:00 〜 12:15 F202 (F202)

立間 徹(東大)

11:30 〜 11:45

[14a-F202-10] 金属グレーティングにおける束縛モードと透過率・電場増強スペクトルの関係

吉川 遼1、西田 宗弘1、角屋 豊1 (1.広大先端研)

キーワード:グレーティング、表面プラズモン、ファノ共鳴

金属グレーティングにおける透過・電場増強の増大を束縛モードの考え方から説明を行う.本研究で扱う構造の特徴として,半導体基板上の非対称構造,金属厚さが薄い,デバイス応用を見越したものを想定していることである.解析の結果,透過・増強のピークは束縛モードが元となっていることが確認された.本研究はデバイス構造決定時の指針となることが期待される.