[14p-P4-1~78] 17 ナノカーボン（ポスター）

[14p-P4-33] マスクレスフォトリソグラフィ装置の開発とCu/グラフェン微細素子における空間分解電子状態解析

〇丸山 航平¹、光畑 遼一¹、高橋 良暢¹、今野 隼¹、永村 直佳²、尾嶋 正治³、小嗣 真人¹ (1.東理大基礎工、2.物質・材料研究機構、3.東京大学)

キーワード：グラフェン、マスクレスフォトリソグラフィ、走査型光電子分光

本研究ではグラフェンデバイスの局所電子状態を制御するため，マスクレスフォトリソグラフィ装置を開発すると共に，グラフェンを用いた微細素子を作製し，局所電子状態を軟X線放射光顕微分光分析により解析した。C 1sスペクトルのメイン，不純物ピークの強度比を議論した結果，グラフェンに対する汚染の深さ成分が議論でき，微細加工プロセスの改善すべき点が示された。