2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[19p-231C-1~19] 12.1 作製・構造制御

2018年9月19日(水) 13:15 〜 18:15 231C (3Fラウンジ1)

葛原 大軌(岩手大)、廣芝 伸哉(早大)

17:00 〜 17:15

[19p-231C-15] 有機薄膜蒸着における入射分子温度の測定

松原 亮介1,2、東 武志2、阿部 峰大1、尾崎 幸潤1、久保野 敦史1,2 (1.静大院総合、2.静大工)

キーワード:有機薄膜、真空蒸着、入射分子温度

有機薄膜の構造制御において基板温度および成長速度が重要なパラメータとなることはすでによく知られている。しかし、成長速度を制御する際、一般的には蒸発源の加熱によって入射分子頻度を制御するため、入射分子頻度のみならず入射分子の温度も同時に変化してしまう。我々は入射分子温度を定量的に評価する手法の開発に取り組んでおり、これまでに白金フィラメントと気体分子の熱交換を利用して分子温度を決定するという原理の実証を報告してきた。今回は実際の蒸着中における入射分子温度の測定を試み、基板に入射する分子の温度測定に成功したので報告する。