2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-222-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 222 (222)

齋藤 真澄(東芝メモリ)、鶴岡 徹(物材機構)

09:30 〜 09:45

[20a-222-3] Pt/Nb:SrTiO3界面動作型抵抗変化メモリにおける抵抗変化領域の赤外線イメージング

落合 克行1,2、木下 健太郎1、金子 拓海1、上沼 睦典3、浦岡 行治3 (1.東理大理、2.鳥取大工、3.奈良先端大)

キーワード:抵抗変化メモリ、Nb:SrTiO3、ペロブスカイト