10:45 〜 11:00 [17a-D101-5] PECVD法を用いたシリコン量子ドット積層構造作製におけるバリア層の構造・光学特性評価 〇(B)赤石 龍士郎1、北沢 宏平1、小野 聖1、加藤 慎也2、後藤 和泰1、宇佐美 徳隆1、黒川 康良1 (1.名大院工、2.名工大院工)