16:00 〜 18:00 [17p-P12-3] Cl2およびBCl3を用いたICP-RIEによるGaN表面粗さへの影響 〇宇崎 滉太1、今熊 豪1、新海 聡子2 (1.九工大、2.九工大マイクロ化)