2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[18p-B403-1~19] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:30 B403 (53-403)

尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)、一野 祐亮(名大)

13:15 〜 13:30

[18p-B403-1] MOD法による新規層状酸化ハロゲン化物中間層の開発

元木 貴則1,5、池田 周平1、中村 新一2、本田 元気3、永石 竜起3、土井 俊哉4,5、下山 淳一1,5 (1.青学大理工、2.TEP、3.住友電工、4.京大院エネ科、5.JST-ALCA)

キーワード:REBCO薄膜、酸化ハロゲン化物、MOD法

これまで我々はMOD法を用いて原料溶液へのCl添加によりc軸配向したBa2Cu3O4Cl2 (Ba2342)酸化塩化物がYBCO薄膜中に析出することを見出してきた。Ba2342はYBCO母相の2軸配向を促進するとともに、YBCO配向膜の得られる成膜条件を大きく拡大することが分かっている。本研究では、非真空のMOD法を用いてこの酸化塩化物を2軸配向中間層として成膜し、その上にYBCOをエピタキシャル成長させることを目的としている。