一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2019年3月10日(日) 13:45 〜 18:15 W323 (W323)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:15
〇大家 渓1 (1.成蹊大理工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇寺田 海輝1、名村 今日子1、鈴木 基史1 (1.京大院工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇(B)後藤 真菜美1、柳瀬 隆2、長浜 太郎2、島田 敏宏2 (1.北大工、2.北大院工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇太宰 卓朗1、安井 伸太郎1、片山 司2、谷山 智康3、伊藤 満1 (1.東工大、2.東大、3.名大)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(M1)小松 遊矢1、清水 亮太1,2、小林 成1、西尾 和記1、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1)堀松 芳樹1、伊藤 翔陽1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇横山 竜1、水城 淳1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇相良 僚佑1、川村 みどり1、木場 隆之1、阿部 良夫1、金 敬鎬1 (1.北見工大)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇西 暁登1、吉松 公平1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(DC)牟田 実広1、西川 俊2、有田 誠1、一瀬 中3、向田 昌志1 (1.九大院工、2.九大工、3.電中研)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇Xinyi He1、Zewen Xiao1、Takayoshi Katase1,2、Keisuke Ide1、Hideo Hosono1,3、Toshio Kamiya1,3 (1.MSL, Tokyo Tech、2.PRESTO, JST、3.MCES, Tokyo Tech)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(M2)Ke Gu1、Tsukasa Katayama1、Shintaro Yasui2、Akira Chikamatsu1、Mitsuru Itoh2、Tetsuya Hasegawa1 (1.The Univ. of Tokyo、2.Tokyo Tech.)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇Xin DAI1、Yuya Komatsu1、Ryota Shimizu1,2、Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech、2.JST-PRESTO)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(D)Viswanath Pamarti1、Yoshimura Masamichi1 (1.Toyota Technological Institute)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇(D)YouJin Kim1、Shinya Konishi1、Yuichiro Hayasaka2、Katsuhisa Tanaka1 (1.Kyoto University、2.Tohoku University)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇(DC)Mingling Sun1,2、Takahide Kubota2,3、Yoshiaki Kawato4、Shigeki Takahashi4、Yoshiaki Sonobe4、Koki Takanashi2,3 (1.Grad. Sch. of Eng, Tohoku Univ.、2.IMR, Tohoku Univ.、3.CSRN, Tohoku Univ.、4.Samsung R&D Institute Japan)
スケジュール
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