[10a-Z20-1~12] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[10a-Z20-3] ミストCVD法を用いたフレキシブルなZnO薄膜のエピタキシャル成長および光学的特性の評価

〇新田 悠汰¹、西中 浩之¹、吉本 昌広¹ (1.京工繊大)

キーワード：酸化亜鉛, フレキシブル, ミストCVD法