2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[12p-D419-1~15] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2020年3月12日(木) 13:45 〜 17:45 D419 (11-419)

大島 孝仁(FLOSFIA)、東脇 正高(情通機構)

14:00 〜 14:15

[12p-D419-2] 熱力学・動力学的条件制御に基づくSnO薄膜の移動度制御

簑原 誠人1、三溝 朱音2、菊地 直人1、阪東 恭子1、吉田 良行1、相浦 義弘1 (1.産総研、2.東京理科大)

キーワード:酸化物半導体