[13p-N107-1~15] 8.4 プラズマライフサイエンス

△ [13p-N107-11] 沿面放電型遺伝子導入法の電気的、化学的要因分布の可視化と遺伝子導入範囲との相関性

〇黒木 悠汰¹、木戸 祐吾²、佐藤 晋^1,3、神野 雅文^1,3 (1.愛媛大学、2.パール工業、3.アイジーン)

キーワード：プラズマ遺伝子導入、ダストフィギュア法、ヨウ素デンプン反応

著者らはプラズマ遺伝子導入法の細胞への遺伝子導入範囲の拡大を目的として、沿面放電を用いた研究を行っている。沿面放電法により従来のマイクロプラズマ法と比べて導入範囲の拡大に成功したが、その導入機序は不明であった。本研究では沿面放電が生成する活性酸素種（ROS）の濃度分布をヨウ素デンプン反応により、また電流・電荷の影響範囲を明らかにするため、Dust Figure法により残留電荷の可視化を行い、導入範囲と比較を行ったので報告する。