[22p-P01-1~12] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22p-P01-11] 粉体ターゲットプラズマプロセスによる傾斜機能性膜の作製I

〇川崎 仁晴¹、須本 航輝¹、鴛淵 梨花¹、大島 多美子¹、柳生 義人¹、猪原 武士¹、日比野 祐介¹ (1.佐世保高専)

キーワード：粉体ターゲット、傾斜機能性薄膜

数種類の粉体ターゲットをもちいたプラズマプロセスで、基板と薄膜の界面ではより密着性がよく、高圧水素に密着する薄膜側では水素脆化防止効果が高いような傾斜機能性薄膜の作製を試みた。結果から、ターゲット粉体中のNiO/SUSの組成比を制御することで、薄膜中のNi/SUS組成比は制御できることが示唆された。